德國raith電子束光刻赫爾納供應(yīng)
德國raith電子束光刻赫爾納供應(yīng)

赫爾納貿(mào)易優(yōu)勢供應(yīng)德國raith電子束光刻 ， 德國總部直接采購，近30年工業(yè)品經(jīng)驗,原裝產(chǎn)品,選型，為您提供一對一好的解決方案：貨期穩(wěn)定，報價，價格優(yōu)，在中國設(shè)有8辦事處提供相關(guān)售后服務(wù).

企業(yè)介紹：
Raith 是納米、電子束光刻、FIB SEM 納米、納米工程和逆向工程應(yīng)用的精密制造商。
客戶包括涉及納米研究和材料科學各個領(lǐng)域的和其他組織，以及將納米用于特定產(chǎn)品應(yīng)用或生產(chǎn)化合物半導體的工業(yè)和中型企業(yè)。
Raith  1980 年，總部位于德國多特蒙德，擁有 250 多名員工。公司通過在荷蘭、美國和亞洲的子公司以及的伙伴和服務(wù)網(wǎng)絡(luò)，盡可能與重要的市場的客戶密切。


應(yīng)用：化合物半導體器件
光電
衍射光學元件
集成電路分析
微納米工程
納米光子學
納米科學

德國raith電子束光刻產(chǎn)品：
電子束光刻
FIB-SEM納米
大面積SEM成像
納米光刻
無掩模激刻

德國raith電子束光刻產(chǎn)品描述：

電子束光刻系統(tǒng)是 Raith 的核心業(yè)務(wù)。我們泛的產(chǎn)品組合，涵蓋從全自動高分辨率系統(tǒng)到多功能工具的方方面面，可為您提供理想的 EBL 系統(tǒng)以您的需求。

德國raith電子束光刻產(chǎn)品屬性
具有自動化、吞吐量和性的高分辨率光刻
EBPG Plus 是一種的電子束光刻系統(tǒng)。這個經(jīng)過現(xiàn)場驗證且成功的系列現(xiàn)在已經(jīng)了進一步的進化水平。憑借100 kV 寫入模式和5 nm 以下的高分辨率光刻，它涵蓋了各種納米設(shè)施中直接寫入納米光刻、工業(yè)研發(fā)和批量生產(chǎn)的前沿應(yīng)用。吞吐量、穩(wěn)定性度和精度的新集成協(xié)調(diào)了性能參數(shù)之間的交互，以獲得的高分辨率光刻結(jié)果。諸如
·自動晶圓和多樣品曝光
·自動曝光參數(shù)切換和校準，實現(xiàn)高通量和高分辨率之間的穩(wěn)定切換
·易于學習的圖形用戶界面和腳本終端界面
·的多用戶環(huán)境和不同的訪問別
·快的階段，建立時間短
·自動 2 或 10 座氣閘，
·且無錯誤的樣品校準
·用于線邊緣粗糙度的壓裂模式
·使用 Firebird 的數(shù)據(jù)處理，在短的時間內(nèi)實現(xiàn)的模式度

德國raith電子束光刻特點：
特征
具有覆蓋精度的直接寫入性能≤5納米
穩(wěn)定的大面積書寫，拼接準確≤8納米
束流350安



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